主要特点：

深紫外覆盖。覆盖范围是160－400nm。

性能卓越。峰-峰稳定性小于0.005%的超级稳定光源输出。

主要应用：

半导体检测、薄膜厚度测量、静电去除器、光谱学、环境计量、

光学元件检测、材料抗紫外性测试和激发光源等。

光学系统：

光谱数据：

光谱曲线1（MgF2窗口）	光谱曲线2（硅、紫外玻璃）