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离子蚀刻机10IBE用于提升碳化硅微光学元件的品质
某光学元件制造商为了优化碳化硅微光学元件,降低碳化硅微光学元件表面粗糙度,采用Hakuto离子蚀刻机10IBE对其进行优化.Hakuto离子
2021-03-11
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅
长春某研究所在制作闪耀罗兰光栅的研究中采用伯东Hakuto离子蚀刻机10IBE,制造出的闪耀罗兰光栅比其他工艺制造的光栅产品整体衍射
2021-03-11
Hakuto离子蚀刻机7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片
某芯片实验室为了解决芯片湿法刻蚀难以解决的横向腐蚀问题, 引进伯东Hakuto离子蚀刻机7.5IBE用于刻蚀硅微机械陀螺芯片.Hakuto离
2021-03-11
真空释放台 ( VRS-24 )
产品描述真空释放台使用客户提供的连续真空, 并将其应用于 Gel-pak VR 托盘的底部, 使其处于释放模式.该 VR -24 包括一个开关盒
2021-03-11
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