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Hakuto离子蚀刻机20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体
某厂商研发部门采用伯东Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C用于蚀刻KDP 晶体进行抛光加工, 用以消除单点金刚石车削（SPDT）后 KDP 晶体表
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2021-03-11 |
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Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板
某印制板线路板生产工厂采用伯东 Hakuto全自动离子刻蚀机MEL3100 将覆铜板上不需要的铜蚀刻掉, 将需要保留的铜保留下来.Hakuto全
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2021-03-11 |
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Hakuto离子蚀刻机20IBE-J 用于光学器件精密加工
某光学器件制造商采用伯东Hakuto离子蚀刻机20IBE-J应用于光学器件精密加工,通过蚀刻工艺提高光学器件的聚酰亚胺薄膜的表面光洁度
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2021-03-11 |
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Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层
某芯片设计机构研究部门采用伯东Hakuto离子蚀刻机7.5IBE用于芯片去层.Hakuto离子蚀刻机7.5IBE技术规格:真空腔1 set,主体不锈钢,
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2021-03-11 |
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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物
某印刷电路板制造商采用伯东Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J应用于刻蚀印刷电路板局部表面去除污染物.Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J技术
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2021-03-11 |
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Hakuto离子蚀刻机10IBE应用于碲镉汞晶体电学特性研究
某研究机构采用Hakuto离子蚀刻机10IBE对碲镉汞晶体进行蚀刻,并研究碲镉汞晶体蚀刻后的电学特性.Hakuto离子蚀刻机10IBE技术参数:
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2021-03-11 |
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伯东离子刻蚀机 IBE 用于金铜镍银铂等材料微米级刻蚀
Hakuto日本原装设计制造离子刻蚀机IBE,提供微米级刻蚀,满足所有材料的刻蚀,即使对磁性材料,金铜镍银铂等金属及复合半导体材料,这
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2021-03-11 |
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Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 用于半导体晶圆刻蚀
某半导体公司为了去除晶圆反应表面产生的反应产物, 进而提高反应效率, 同时提高晶圆的均匀度, 采用Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C用
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2021-03-11 |
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